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半导体指的是在常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的一种材料,主要应用于集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域,在半导体工业加工的过程中将会有部分的气体排出,那半导体工业的废气有毒吗,怎么处理好?
半导体工业在加工的过程中会使用到光刻胶、蚀刻液、清洗剂、显影剂等溶剂,而这些溶剂是含有大量的有机物成分,排放出来的废气含有HCl、氨、HF等危险污染物,而主要处理的是具有挥发性的VOCs。VOCs污染物为有机化合物,在浓度较高且有火花或静电情况下,极易发生闪爆现象。半导体在制造过程中一般的污染源包括颗粒污染物、金属离子和化学物质等,而这些都是属于有害的污染物。
半导体废气处理方法根据工业废气成分进行废气处理设备的选择:
喷淋塔:
喷淋塔可分为酸液喷淋塔、碱液喷淋塔、循环水喷淋塔,因在进行废气处理的过程中会涉及到酸碱等不同的污染物质,设备会根据废气的性质、采用的处理工艺将设备的材料划分为玻璃钢喷淋塔、pp喷淋塔、不锈钢喷淋塔。
喷淋塔对各种腐蚀性气体净化处理效果明显,能有效去除氯化氢气体(HCl)、氟化氢气体(HF)、氨气(NH3)、硫酸雾(H2SO4)、铬酸雾(CrO3)、氰氢酸气体(HCN)、碱蒸气(NaOH)、福尔马林(HCHO)等水溶性气体。喷淋塔废气净化效率高、操作管理简单、使用寿命长,净化处理后的酸碱废气排放达到国家排放标准。
催化燃烧装置:
RCO催化燃烧设备的运作原理是将有机废气通过过滤器过滤后,进入设备的活性炭吸附模块,对废气进行吸附、浓缩,再借助催化剂燃烧的方式对吸附、浓缩后的废气进行净化处理,燃烧的过程为无焰燃烧,燃烧后的废气会转化为二氧化碳和水。
在催化氧化炉内被加热到250~300℃的有机废气在贵金属催化剂的作用下发生无焰燃烧,有机废气被氧化分解成二氧化碳和水,达到废气处理的目的,废气处理后的洁净气体经烟囱达标排放。燃烧后的热空气通过换热器进行降温,降温后的气体部分排放,部分用于活性炭脱附再生以达到废热利用和节能的目的。
半导体工业废气是具有毒性的,不同的工业采用的工艺原材料不同,因此采用的废气处理设备以及工艺都是不一样的,具体的处理方案可咨询我们。