半导体酸性废气处理

半导体酸性废气来源：

半导体产业中的酸性废气主要来源于清洗工序，其中使用的清洗剂溶剂中含有大量酸性废气，主要成分为硝酸，硫酸，氢氟酸等，在工艺过程中，这些大部分通过挥发成为废气排放。

半导体酸性废气处理方法：

碱液体二级喷淋法，又称化学洗涤法。

因液体自身具有的溶解特性，可以更好地利用酸碱中和去除污染物，而达到大气排放标准，故喷淋法是半导体行业酸碱废气治理普遍采用的主要处理方法。

半导体酸性废气处理工作原理：

通过设备直接连接将废气收集起来，在风机的作用下将废气源源不断向净化设备输送，再经过通风管道的输送作用，使废气输送到系统的喷淋塔内，气体在喷淋塔塔内经过碱性洗液的喷淋洗涤过程，废气中所含有的容易产生酸雾的气体成份充分与碱性水雾接触混合并且发生中和反应，并且形成较好的气液两相交和。经过喷淋后的水雾再在洗涤塔内的填料层内形成一个多孔接触面较大的处理层，从而进一步对酸雾进行治理。

半导体酸性废气处理设备优点：

⑴半导体酸性废气处理设备工艺简单，造价低，运行费用少，安装方便，耐腐蚀；

⑵性能稳定，除尘效率高，脱硫效果好；

⑶重量轻，便于安装、运输及维修管理；

⑷特别适应水溶性含尘气体；